核徑跡防偽技術(shù)介紹

       根據用戶(hù)要求的圖案通過(guò)成像技術(shù)采用原子能核反應堆輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級微孔，微孔密度每平方厘米40-200萬(wàn)個(gè)，微孔在平面上按統計規律分布，微孔斜度30-50度，孔道具有良好的透氣、透水性能。通過(guò)特殊工藝將薄膜與基材復合，再經(jīng)過(guò)印刷而制成客戶(hù)要求的防偽標識。 

       核徑跡防偽技術(shù)，清華大學(xué)核能技術(shù)設計研究院與廣州傾松數碼科技有限公司合作生產(chǎn)的核徑跡防偽標識。 是根據用戶(hù)要求的圖案通過(guò)成像技術(shù)采用原子能核反應堆輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級微孔，微孔密度每平方厘米40-200萬(wàn)個(gè)。

       核徑跡防偽的特點(diǎn)

       1、核徑跡膜的生產(chǎn)必須使用原子核反應堆等國家專(zhuān)控大型核設施，國內只有極少數幾個(gè)在國家控制下的核研究單位擁有這樣的設備，是任何個(gè)人和團體不可能擁有的。目前國內唯有清華大學(xué)核能技術(shù)設計研究院的核反應堆具有生產(chǎn)核徑跡膜的能力。高度壟斷決定一般企業(yè)不可生產(chǎn)性。核徑跡防偽生產(chǎn)是占有獨性的 。核徑跡防偽標識的生產(chǎn)，還需要核物理、化學(xué)、電子、機械、光學(xué)等多學(xué)科的共同參與才能完成。        
    
       2、核徑跡防偽標識圖案是由每平方厘米幾十萬(wàn)到幾百萬(wàn)個(gè)微米級微孔組成，具有“微觀(guān)設密宏觀(guān)顯示”的特點(diǎn)，使不可見(jiàn)的幾百萬(wàn)個(gè)像素集合“放大”成為可見(jiàn)的宏觀(guān)圖案。微孔密度、微孔斜度、孔徑及分布規律，形成了嚴格的密碼信號，是仿造者根本無(wú)法逾越的障礙。核徑跡防偽標識其特有的微孔分布規律，圓柱形微孔孔道具有的散射角，及其分布規律，使得防偽標識在顯微鏡下可以清楚地識別出是否為核反應堆加工，實(shí)現了專(zhuān)家識別和大眾識別相結合的防偽目的。防偽圖案是不可仿造的 。 

       3、核徑跡防偽產(chǎn)品安全評價(jià)報告，清華大學(xué)核能技術(shù)設計研究院生產(chǎn)的核徑跡防偽膜經(jīng)各級權威部門(mén)測試，符合國家“GB4792-84”放射衛生防護標準，放射水平為本底膜水平?？梢宰鳛槭称?、藥品等各類(lèi)產(chǎn)品的包裝。上較廣，隱形文字、圖案多用于防偽技術(shù)。


上一篇：光變油墨防偽標簽技術(shù)
下一篇：防偽標簽技術(shù)案例